PVD真空鍍膜的工藝流程如下：

1. PVD前清洗：對待鍍物進行表面清潔處理，確保表面光潔度和粗糙度符合要求。

2. 進爐抽真空：將待鍍物和鍍層材料放置在真空室內，進行真空抽氣，以將室內氣體抽出，降低室內壓力，創造真空環境。

3. 洗靶及離子清洗：將所需的鍍層材料制成靶材，進行燒結處理，以提高材料的密度和純度，并保證靶材的穩定性和耐久性。

4. 鍍膜：將靶材放置在鍍膜設備中，并通過電子束、離子束或熱蒸發等方式，將靶材材料轉化為氣態，形成氣體束，沉積在待鍍物表面，形成鍍層。

5. 鍍膜結束，冷卻出爐：鍍膜完成后，待鍍物冷卻后出爐。

6. 后處理（拋光、AFP）：根據需要，對鍍層進行拋光、AFP等后處理工藝。

需要注意的是，具體的工藝流程可能會根據不同的鍍膜材料和待鍍物有所不同，因此在實際操作中需要根據具體情況進行調整。