物理氣相沉積PVD真空泵 

物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。。

PVD的真空系統由真空腔室、分子泵、螺桿加羅茨真空機組、氣動閥門及氣管組成。進出腔室組成低真空系統、隔離室+緩沖室+濺射室組成的高真空系統。

漢鐘IPH系列半導體真空泵，已在各大晶圓工廠應用如：中芯國際、華虹宏力、華潤上華、臺積電、力積電(力晶/巨晶)、穩懋、全新、Intel、TI、Linear、三星。