PVD鍍膜最初并不是在刀具領域首次使用，而在刀具領域的成功應用卻引起了各大制造業的高度重視，人們紛紛開始研發高性能且穩定可靠性強的涂層設備的同時，也在制造業領域上加深對涂層應用的研究，而通過PVD鍍膜技術制備出的材料同時具備高硬度、低摩擦系數和化學穩定性強等優點。

首先，來跟著認識一下什么是PVD技術？

我們所知PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，它的#pvd鍍膜材料#中文意思是“物理氣相沉積”，它是指在真空條件下，通用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。

PVD(物理氣相沉積)技術又為三大類，分別是真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。

PVD鍍膜技術它的原理呢，是在真空條件下，通過大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質電離，在電場的作用下，使被蒸發物質或其反應產物沉積在工件上。

先給大家介紹一下磁控濺射鍍膜的工藝，磁控濺射鍍膜它是在靶材與真空室壁之間先增加電場，使其氬氣電離，并且使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊，而靶材原子則溢出并且以數十甚至上百電子伏特的動能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面，原子動能則較蒸發高出兩個數量級，它的填充密度高達98%，折射率較高且相對穩定。

PVD鍍膜與傳統化學電鍍相比唯一的相同點是，都是通過一定的方式將一種材料覆蓋在另一種材料的表面。但兩者也有不同點，PVD膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多，而且不會產生有毒或有污染的物質。

據所知，濺射鍍膜工藝上具有可重復性、鍍膜厚度可控等特點，這一特點體現在大面積的基板材料上，我們可根據所需要的厚度制作出理想的材料，制備出的薄膜也具有純度高、致密性好、與材料結合力強等優點。蒸發鍍膜從制造工藝方面來看，蒸鍍材料的制造復雜度要比濺射靶材低一些，蒸發鍍膜它的優點在于工藝簡單便利、操作方便、成膜速度快等。

PVD真空鍍膜在塑料行業上也有著廣泛的使用，因為塑料具有容易成型的特點，所以他的成本很低，質量也很輕，且具有耐腐蝕等特點，通過PVD真空鍍膜可以使塑料的表面具有導電的性能，而且PVD涂層也能夠減少它的吸水率，等鍍膜完成后，針孔也會隨著減少，吸水率也會降低，經過鍍膜的材料表面的金屬光澤被彩色化，裝飾性能也具有很大的提升。