眾所周知，鍍膜的工藝有很多種類，有常見的電鍍法、氧化法，還有氣相生成法、離子注入法、擴散法、涂布法、液相生成法等。

其中氣相生成法又可分為物理氣相沉積法、化學氣相沉積法和放電聚合法。

PVD工藝就是物理氣相沉積法，由于這種工藝都是在真空環境下進行的，因此也稱為這空離子鍍膜技術。

PVD鍍膜技術，是指在真空環境下，采用低電壓，大電流的電弧放電技術轟擊靶材，利用氣體放電，使靶材蒸發，蒸發物質與氣體都發生電離子作用，利用電場加速，使被蒸發的物質及其反應產生的物質沉積在工件上面。