真空鍍膜機離子鍍技術市場使用占比率非常高，鍍餐具，鍍家居，鍍飾品等都離不開離子鍍膜技術，離子鍍膜技術不僅僅在國內受追捧，國外也是一樣受喜愛。那么，真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點是怎樣的？下面小編為大家詳細介紹一下：

離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發展起來的沉積技術。在真空條件下，采用適當的方式使鍍膜材料蒸發，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發物質部分電離，在氣體離子和被蒸發物質離子的轟擊下，蒸發物質或其反應產物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據鍍膜材料不同的蒸發方式和氣體的離化方式，構成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優點。
 
離子鍍的種類及其特點：

直流放電法  電阻  輝光放電dc:0.1kv～5kv  惰性氣體1pa，0.25ma/cm2  結構簡單，膜層結合力強，但鍍件溫升高，分散性差！ 耐熱，潤滑等鍍件

弧光放電法  電子束、燈絲  弧光放電dc:100v 高真空1.33x10-4pa  離化率高，易制成反應膜，可在高真空下成膜，利于提高質量  切削工具、金屬裝飾等鍍件

空心陰極法  空心陰極  等離子體電子束dc:0v～200v 惰性氣體或反應氣體  離化率高，蒸發速度大，易獲得高純度膜層  裝飾、耐磨等鍍件

調頻激勵法  電阻、電子束  射頻電場13.56mhzdc:0.1kv～5kv 惰性氣體或反應氣體  離化率高，膜層結合力強，鍍件溫升低，但分散性差  光學、半導體等鍍件

電場蒸發法  電子束  二次電子dc:1kv～5kv 真空  不純氣體少，能形成較好的膜  電子元件

多陰極法    電阻、電子束 熱電子dc:0v～5kv 惰性氣體或反應氣體 低速電子離化效果好  裝飾、電子、精密機械等零件

聚焦離子束法 電阻 聚集離子束dc:0v～5kv 惰性氣體  因離子聚束，膜層結合力強  電子元件

活性反應法 電子束 二次電子dc:200v 反應氣體o2、n2、ch4、c2h4等  金屬與反應氣體組合能制備多種傾倒物膜層 電子、裝飾、耐磨等鍍件。