pvd真空鍍膜能直接鍍?cè)诓讳P鋼，鈦、鎢鋼等材質(zhì)上，可是對(duì)鐵、鋅合金、銅等壓鑄件真空鍍膜前應(yīng)先舉辦化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD。

　　PVD鍍膜技能是一種真正可以或許得到微米級(jí)鍍層，并且無(wú)污染的環(huán)保型外貌處理懲罰要領(lǐng)，它可以或許制備各類單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜（TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。

　　PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.1μm——5μm，個(gè)中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm——1μm，中岳鈦金，因此可以在險(xiǎn)些不影響工件本來(lái)尺寸的環(huán)境下提高工件外貌的各類物理機(jī)能和化學(xué)機(jī)能，并可以或許維持工件尺寸根基穩(wěn)定，鍍后不須再加工。

　　以上就是pvd真空鍍膜能鍍哪些材質(zhì)？相關(guān)先容，更多關(guān)于電鍍方面的常識(shí)。