pvd真空泵鍍膜的基本原理主要是物理學液相沉積，其是當今國際性上廣泛運用的優秀的金屬表面處理技術性。其原理便是在真空泵標準下，運用汽體充放電使汽體或被蒸發化學物質一部分離化，在汽體離子或被蒸發化學物質離子負電子功效的另外把蒸發物或其生成物沉積在板材上。pvd真空電鍍具備沉積速度更快和表層清理的特性，尤其具備膜層粘合力強、繞性好、可鍍原材料普遍等優勢。選用全世界優秀的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝技術，及在這個基礎以上與國際性權威專家的加工工藝自主創新。憑著在裝飾設計鍍領域十多年的珍貴工作經驗，為顧客出示合適的鍍層生產加工計劃方案。pvd真空電鍍抗氧化性，耐腐蝕，抗腐蝕，有機化學特性平穩，抑酸。手機殼PVD鍍膜抵抗能力，鍍膜機殼非常容易消除漆料和指紋識別。在明顯的太陽，咸的濕地公園和大城市自然環境下，也不無光澤，不空氣氧化，不退色，不掉下來。高寬比抗磨損，耐刮擦，不容易刮傷。可鍍原材料普遍，與基材結合性強。