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真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

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PVD真空蒸發(fā)鍍膜的基本工藝流程

時(shí)間:2020-10-04    點(diǎn)擊數(shù):

真空蒸發(fā)鍍膜的基本工藝流程:

鍍前準(zhǔn)備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預(yù)熔→蒸發(fā)→取件→膜層表面處理→成品

真空蒸發(fā)鍍膜的特點(diǎn):

優(yōu)點(diǎn):設(shè)備簡(jiǎn)單易操作,制成的薄膜純度高、質(zhì)量好,厚度可較準(zhǔn)確控制,成膜速率快,效率高,薄膜生長(zhǎng)機(jī)理比較簡(jiǎn)單。

缺點(diǎn):所形成的薄膜在基材上附著力較小,工藝重復(fù)性不夠好,不易獲得結(jié)晶結(jié)構(gòu)的薄膜。


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