廠家在采購PVD真空鍍膜機時，PVD真空鍍膜機的相關知識，如鍍膜技術工藝步驟、原理、保養維護方法，機器的運行注意事項等等，今天小編為大家介紹一下PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟和原理。

PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟，分為以下四個步驟：
        （1）清洗工件：接通直流電源，氬氣進行輝光放電為氬離子，氬離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出； 
        （2） 鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發氣化。 
        （3）鍍料離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞以及高壓電場后，高速沖向工件； 
        （4）鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發料離子超過濺失離子的數量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。
 
         如果是鍍離子鍍時，蒸發料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能，高速轟擊工件時，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。
 
         PVD (Physical Vapor Deposition) 即物理氣相沉積，分為：真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的 PVD 鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍；通常說的 NCVM 鍍膜，就是指真空蒸發鍍膜。PVD真空鍍膜機鍍膜工藝原理分為以下三種情況： 
      （1）真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發，然后沉積在基體表面上，蒸發的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發成氣相，然后沉積在基體表面，歷史上，真空蒸鍍是 PVD 法中使用最早的技術。 
      （2）濺射鍍膜基本原理：充氬（Ar）氣的真空條件下，使氬氣進行輝光放電，這時氬（Ar）原子電離成氬離子（Ar），氬離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在 l0 -2 Pa～10Pa 范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。 
      （3）離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術，使鍍料原子部分電離成離子，同時產生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。