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18913268389湯生
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在手機(jī)蓋板領(lǐng)域,PVD鍍膜裝飾工藝的應(yīng)用越來越廣,無論在金屬、玻璃、陶瓷及復(fù)合材料后蓋上,都需要PVD鍍膜,來提升手機(jī)蓋板的顏值及逼格,那么如何通過鍍膜來提升產(chǎn)品的靚麗與品位呢?有哪些主流的工藝?今天我們來了解一下。
1. 玻璃內(nèi)表面鍍反光膜
2. 玻璃外表面鍍AG、AF膜,增加手感,內(nèi)表面鍍顏色膜
3. 復(fù)合板材鍍反藍(lán)光(冰焰藍(lán))
4. 氧化鋯陶瓷及玻璃蓋板外表面鍍膜
PVD鍍膜主要分為蒸發(fā)鍍、濺射鍍和離子鍍。今天,我們主要來比較一下蒸發(fā)鍍與濺射鍍。
蒸發(fā)鍍膜,是將膜料加熱蒸發(fā)為氣相后沉積到襯底表面,此種成膜方式?jīng)Q定了蒸發(fā)出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev,原子動(dòng)能太低,填充密度太低。
電子束蒸發(fā)的不穩(wěn)定性及其內(nèi)在機(jī)理:
影響種類 | 問題點(diǎn) | 內(nèi)在機(jī)理 |
溫度 | 成膜溫度影響產(chǎn)品顏色 | 溫度高填充密度高,漂移少 |
真空室氧化能力的影響 | 大清洗前波長(zhǎng)偏長(zhǎng),之后偏短 | *水蒸氣可以認(rèn)為就是氧氣。 *鍍膜速度直接影響氧化能力, 即膜層中金屬或低價(jià)氧化物的比例。 *從坩堝里蒸發(fā)出來的物質(zhì)是高價(jià)氧化物、 低價(jià)氧化物和金屬單體的混合物,更多的金屬 單體或低價(jià)氧化物在充大氣后會(huì)俘獲更多的 氧原子,使膜層致密。 |
空氣濕度大時(shí)膜層顏色不好控制 | ||
開爐時(shí)間長(zhǎng)波長(zhǎng)偏長(zhǎng) | ||
鍍膜慢波長(zhǎng)偏長(zhǎng) | ||
膜料分解狀況的影響 | 貌似電子槍光斑大小有影響 | *光斑位置影響光斑大小。 *燈絲變形也會(huì)帶來光斑大小的變化。 *掃描足夠快時(shí)是面蒸發(fā),慢時(shí)依舊點(diǎn)蒸發(fā), 這當(dāng)然也相當(dāng)于“光斑大小”問題。 *光斑小,蒸發(fā)區(qū)域溫度高,材料分解嚴(yán)重, 金屬單體和低價(jià)氧化物比例更高。 |
貌似光斑位置也有影響 | ||
貌似燈絲變形也有影響 | ||
貌似掃描快慢也有影響 | ||
……… |
磁控濺射鍍膜,通過在靶材與真空室壁之間施加電場(chǎng),使氬氣電離,并使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊,靶材原子溢出并以數(shù)十甚至上百電子伏特的動(dòng)能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面,原子動(dòng)能較蒸發(fā)高出兩個(gè)數(shù)量級(jí),填充密度高達(dá)98%,折射率高且穩(wěn)定。
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