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PVD鍍膜蒸發(fā)鍍與濺射鍍工藝與區(qū)別解讀

時(shí)間:2020-09-04    點(diǎn)擊數(shù):

在手機(jī)蓋板領(lǐng)域,PVD鍍膜裝飾工藝的應(yīng)用越來越廣,無論在金屬、玻璃、陶瓷及復(fù)合材料后蓋上,都需要PVD鍍膜,來提升手機(jī)蓋板的顏值及逼格,那么如何通過鍍膜來提升產(chǎn)品的靚麗與品位呢?有哪些主流的工藝?今天我們來了解一下。

一、手機(jī)非金屬材料如何通過PVD鍍膜來提升靚麗與品位?

1. 玻璃內(nèi)表面鍍反光膜

2. 玻璃外表面鍍AG、AF膜,增加手感,內(nèi)表面鍍顏色膜

3. 復(fù)合板材鍍反藍(lán)光(冰焰藍(lán))

4. 氧化鋯陶瓷及玻璃蓋板外表面鍍膜

二、PVD鍍膜蒸發(fā)鍍與濺射鍍膜區(qū)別

PVD鍍膜主要分為蒸發(fā)鍍、濺射鍍和離子鍍。今天,我們主要來比較一下蒸發(fā)鍍與濺射鍍。

蒸發(fā)鍍膜,是將膜料加熱蒸發(fā)為氣相后沉積到襯底表面,此種成膜方式?jīng)Q定了蒸發(fā)出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev,原子動(dòng)能太低,填充密度太低。

電子束蒸發(fā)的不穩(wěn)定性及其內(nèi)在機(jī)理:

 

影響種類問題點(diǎn)內(nèi)在機(jī)理
溫度成膜溫度影響產(chǎn)品顏色溫度高填充密度高,漂移少
真空室氧化能力的影響大清洗前波長(zhǎng)偏長(zhǎng),之后偏短*水蒸氣可以認(rèn)為就是氧氣。
*鍍膜速度直接影響氧化能力,
即膜層中金屬或低價(jià)氧化物的比例。
*從坩堝里蒸發(fā)出來的物質(zhì)是高價(jià)氧化物、
低價(jià)氧化物和金屬單體的混合物,更多的金屬
單體或低價(jià)氧化物在充大氣后會(huì)俘獲更多的
氧原子,使膜層致密。
空氣濕度大時(shí)膜層顏色不好控制

開爐時(shí)間長(zhǎng)波長(zhǎng)偏長(zhǎng)

鍍膜慢波長(zhǎng)偏長(zhǎng)

膜料分解狀況的影響貌似電子槍光斑大小有影響*光斑位置影響光斑大小。
*燈絲變形也會(huì)帶來光斑大小的變化。
*掃描足夠快時(shí)是面蒸發(fā),慢時(shí)依舊點(diǎn)蒸發(fā),
這當(dāng)然也相當(dāng)于“光斑大小”問題。
*光斑小,蒸發(fā)區(qū)域溫度高,材料分解嚴(yán)重,
金屬單體和低價(jià)氧化物比例更高。
貌似光斑位置也有影響

貌似燈絲變形也有影響

貌似掃描快慢也有影響

………

 

磁控濺射鍍膜,通過在靶材與真空室壁之間施加電場(chǎng),使氬氣電離,并使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊,靶材原子溢出并以數(shù)十甚至上百電子伏特的動(dòng)能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面,原子動(dòng)能較蒸發(fā)高出兩個(gè)數(shù)量級(jí),填充密度高達(dá)98%,折射率高且穩(wěn)定。  



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