PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積）的縮寫,因其具有沉積速度快,膜層附著力強,繞性好,表面清潔,可鍍材料較多等多項優點.是目前國際上常用的較先進的表面處理技術.該技術較廣應用于航空航天,電子,光學,機械,建筑,輕工,冶金,材料等領域，可制備具有耐磨,耐腐蝕,裝飾,導電,絕緣,光導,壓電,磁性,潤滑,超導等特性的膜層.PVD鍍膜腔體
物理氣相沉積是通過蒸發，電離或濺射等過程，產生金屬粒子并與反應氣體反應形成化合物沉積在工件表面.物理氣象沉積方法有真空鍍，真空濺射和離子鍍三種，應用較廣的是離子鍍。

物理氣相沉積技術早在20世紀初已有些應用，但30年迅速發展，成為一門極具廣闊應用前景的新技術，并向著環保型,清潔型趨勢發展.20世紀90年代初至今，在鐘表行業，尤其是較好手表金屬外觀件的表面處理方面達到越來越為較廣的應用.
物理氣相沉積技術基本原理可分三個工藝步驟:
(1)鍍料的氣化:即使鍍料蒸發，異華或被濺射，也就是通過鍍料的氣化源。

(2)鍍料原子,分子或離子的遷移:由氣化源供出原子,分子或離子經過碰撞后，產生多種反應。

(3)鍍料原子,分子或離子在基體上沉積。真空環境條件是影響最終涂層質量最重要的因素。

鍍膜前,必須進行壓升率測試,以保證真空環境條件進而滿足鍍膜的標準。在我們的自動真空鍍膜工藝中,壓升率測試是自動進行的。當真空室內真空度達到工藝設定的保底真空后,進入壓升率測試步驟。這時系統會自動關閉高閥,真空室與泵組隔離,真空室內壓力會升高.一般1分鐘內如果壓力不超過設定的預警值,系統就會自動進入鍍膜步驟.如果壓力超過設定的預警值,系統就會有報警提示,這時操作人員應按照操作流程,再次進行抽真空和加熱烘烤,重復進行壓升率測試,直到壓升率滿足鍍膜條件。真空蒸鍍基本原理是在真空條件下，使金屬,金屬合金或化合物蒸發，然后沉積在基體表面上，蒸發的方法常用電阻加熱，高頻感應加熱，電子束,激光束,離子束高能轟擊鍍料，使蒸發成氣相，然后沉積在基體表面，歷史上，真空蒸鍍是PVD法中使用最早的技術。