PVD鍍膜工藝與濺射鍍工藝的區別

時間：2020-07-20 點擊數：

在手機蓋板領域，PVD鍍膜裝飾工藝的應用越來越廣，無論在金屬、玻璃、陶瓷及復合材料后蓋上，都需要PVD鍍膜，來提升手機蓋板的顏值及逼格，那么如何通過鍍膜來提升產品的靚麗與品位呢？有哪些主流的工藝？今天我們來了解一下。

一、手機非金屬材料如何通過PVD鍍膜來提升靚麗與品位？

1. 玻璃內表面鍍反光膜

2. 玻璃外表面鍍AG、AF膜，增加手感，內表面鍍顏色膜

3. 復合板材鍍反藍光（冰焰藍）

3. 氧化鋯陶瓷及玻璃蓋板外表面鍍膜

PVD鍍膜主要分為蒸發鍍、濺射鍍和離子鍍。今天，我們主要來比較一下蒸發鍍與濺射鍍。

蒸發鍍膜，是將膜料加熱蒸發為氣相后沉積到襯底表面，此種成膜方式決定了蒸發出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev，原子動能太低，填充密度太低。

電子束蒸發的不穩定性及其內在機理：

影響種類	問題點	內在機理
溫度	成膜溫度影響產品顏色	溫度高填充密度高，漂移少
真空室氧化能力的影響	大清洗前波長偏長，之后偏短	水蒸氣可以認為就是氧氣。鍍膜速度直接影響氧化能力，即膜層中金屬或低價氧化物的比例。 *從坩堝里蒸發出來的物質是高價氧化物、低價氧化物和金屬單體的混合物，更多的金屬單體或低價氧化物在充大氣后會俘獲更多的氧原子，使膜層致密。
空氣濕度大時膜層顏色不好控制
開爐時間長波長偏長
鍍膜慢波長偏長
膜料分解狀況的影響	貌似電子槍光斑大小有影響	光斑位置影響光斑大小。燈絲變形也會帶來光斑大小的變化。掃描足夠快時是面蒸發，慢時依舊點蒸發，這當然也相當于“光斑大小”問題。光斑小，蒸發區域溫度高，材料分解嚴重，金屬單體和低價氧化物比例更高。
貌似光斑位置也有影響
貌似燈絲變形也有影響
貌似掃描快慢也有影響
………

磁控濺射鍍膜，通過在靶材與真空室壁之間施加電場，使氬氣電離，并使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊，靶材原子溢出并以數十甚至上百電子伏特的動能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面，原子動能較蒸發高出兩個數量級，填充密度高達98%，折射率高且穩定。